新闻中心
壹周要闻 | 大半导体产业供应链动态#225期
发布日期:2026-08-17


01
政策动态(8月10日)

韩国将设立5万亿韩元半导体专项基金,重点投资材料、零部件及无晶圆厂企业

8月10日,韩国总统秘书室室长姜勋植表示,韩国将设立一项规模5万亿韩元(约合35.2亿美元)的半导体专项基金,重点投资于有前景的芯片材料、零部件以及无晶圆厂企业,这是政府建设半导体产业集群计划的一部分。除半导体基金外,姜勋植还宣布,政府将同时提供5万亿韩元的贸易融资以支持出口型供应商,并力争年内推动《超大型特殊产业园区法》通过,以加快相关区域的许可审批、环境评估和基础设施建设。


点评:韩国设立5万亿韩元半导体专项基金,是其构建全球最大半导体产业集群计划的又一配套举措。与此前聚焦晶圆制造的800万亿韩元投资不同,此次基金明确投向材料、零部件及无晶圆厂企业,意在补强产业链上游和设计端的薄弱环节——这正是韩国半导体产业在存储制造优势之外的短板所在。同步推进的5万亿韩元贸易融资和《超大型特殊产业园区法》,则从资金流动和行政效率两个维度为产业集群建设扫清障碍。从产业竞争视角看,韩国正以“制造产能扩张+上游材料设备扶持+设计生态培育”的全产业链思维推进半导体战略。这种立体化布局对中国半导体产业构成系统性竞争压力——不仅在存储制造领域拉大产能差距,还在上游材料和芯片设计等国产替代关键环节形成直接竞争。国内产业需在巩固自身优势的同时,密切关注韩国在材料、零部件等细分领域的扶持政策及其对全球供应链格局的潜在影响。

02
公司动态(8月11日)

消息称Amkor考虑出售中国大陆业务部分股权,估值或达10-15亿美元

据彭博社报道,半导体OSAT企业安靠(Amkor)正在考虑出售其中国业务部分股权。该公司正与顾问合作,对分拆中国大陆业务并出售股份的可能进行初步探索。知情人士称,安靠可能保留该业务的少数股权,此项中国业务的整体估值可能在10-15亿美元之间。安靠于2001年7月在中国上海设立半导体封装工厂,并于2004年5月收购IBM在中国上海的第二大半导体工厂,此后又于2016年6月在中国开设MEMS封装生产线。截至目前,安靠尚未就上述事项作出最终决定,相关讨论仍在初步阶段。知情人士表示,亚洲投资机构和行业参与者可能会对这些资产感兴趣。


点评:安靠考虑出售中国大陆业务部分股权,折射出全球半导体封测产业在地缘政治压力下加速重构的趋势。作为全球第二大OSAT企业,安靠在中国大陆深耕超过二十年,上海工厂是其重要的海外封装产能据点。此次探索分拆大陆业务并引入亚洲投资者,核心动因可能来自两方面:一是美国对华半导体技术管制的持续收紧,使在华运营的合规成本与风险持续上升;二是中国大陆本土封测产能快速崛起,外资封测厂在中低端市场的竞争优势正被稀释。从交易结构看,安靠拟保留少数股权而非完全退出,暗示其仍希望保留对中国市场的战略触角,同时通过引入本土资本降低地缘政治风险。若交易达成,可能成为外资半导体封测企业“本土化股权重构”的典型案例。对国内封测产业而言,安靠上海工厂的资产若由本土产业资本或封测同行接手,有助于增强国内先进封装产能的自主可控能力;但同时也需警惕外资封测企业加速技术转移放缓、高端产能外移带来的长期影响。

03
公司动态(8月11日)

英伟达联合华尔街六大机构搭建5000亿美元算力融资平台,推动AI基础设施资产化

8月11日,英伟达宣布与Apollo、贝莱德、黑石、Brookfield、高盛及KKR六家全球顶级金融机构达成谅解备忘录,共同搭建一个独立的算力融资平台,目标是逐步撬动超过5000亿美元的第三方资本,投向AI基础设施建设。该平台旨在将英伟达的算力和全栈AI基础设施转化为全球资本可投资的资产类别——算力能带来更低的单位token成本、更高的收入,使用寿命更长,加上CUDA生态背后庞大的承购方网络,使“算力”具备了类似基础设施的投资属性。通过该平台,英伟达希望以有吸引力的利率为客户建立专项资金池,让前沿AI实验室、企业、政府和云服务商更易获取英伟达基础设施,同时为大型资管机构提供周期更长、与实际用量挂钩的投资机会。英伟达CEO黄仁勋将此形容为公司从“造芯片”到推动打造“AI工厂”这一可投资生产性基础设施的重要节点。目前合作仍需签署最终协议方可生效,英伟达未披露具体财务条款及各机构的投资承诺规模。


点评:英伟达联合华尔街六大机构搭建5000亿美元算力融资平台,标志着AI基础设施的竞争正从“技术竞赛”升级为“资本竞赛”。将算力打包为可投资的资产类别,本质上是英伟达在芯片销售之外开辟的“第二战场”——通过撬动第三方长期资本为客户提供融资支持,既降低了客户采购英伟达基础设施的资金门槛,也锁定了未来数年的CUDA生态粘性。这一模式若跑通,英伟达将从“卖芯片的硬件公司”演变为“AI算力基础设施的架构师和做市商”,其商业护城河将从技术优势扩展至资本生态优势。从产业趋势看,全球AI相关支出今年有望突破7300亿美元,大型科技公司普遍释放信号AI支出不会放缓。在此背景下,谁能更高效地将稀缺算力资源与长期资本对接,正成为下一阶段竞争的关键变量。Apollo、贝莱德等机构的参与,表明华尔街已将AI算力视为类似数据中心、光纤网络的关键基础设施资产类别。对于国内AI产业而言,英伟达这一举措将进一步强化其生态的资本壁垒,国产算力厂商在技术追赶之外,同样需要思考如何构建“技术+资本”的双轮驱动模式,以应对全球AI基础设施竞赛中日益加剧的资本密集度挑战。

04
公司动态(8月11日)

台积电CoWoS良率突破99%,5.5倍光罩尺寸已量产、2029年推进至14倍

8月11日,台积电先进封装技术暨服务副总经理何军在OCP亚太峰会主题演讲中表示,随着AI对算力需求持续攀升,3D IC、CoWoS及SoIC等先进封装技术正快速升级。台积电5.5倍光罩尺寸的CoWoS已实现量产,良率稳定超过98%,部分产品甚至达到99%。何军透露,台积电将保持每年推出新一代CoWoS技术的节奏,预计到2029年进一步推进至14倍光罩尺寸。在SoIC混合键合技术方面,目前6微米混合键合间距已进入高量产,预计2029年进一步缩小到4.5微米,并具备A14堆叠A14的能力。何军强调,未来AI先进封装的发展不只是单一公司的技术竞赛,而是芯片、封装、材料、设备与系统集成整个生态的共同协作。


点评:台积电CoWoS良率突破99%,标志着AI芯片先进封装技术已从“产能爬坡”进入“稳定高良率量产”阶段。5.5倍光罩尺寸的量产和99%的良率水平,意味着台积电在超大尺寸封装领域已建立起显著的工程化壁垒——这对于动辄需要集成数颗计算芯片和十余组HBM的AI加速器而言,是保障产能和成本可控的关键前提。何军“Im the CoWoS guy”的自我调侃背后,折射出台积电在先进封装领域从技术领先到产业话语权确立的转变。从技术路线看,台积电规划2029年推进至14倍光罩尺寸、SoIC键合间距缩小至4.5微米,表明先进封装正沿着“更大尺寸、更高密度”的路径持续演进。随着封装尺寸从百毫米级向更大尺度扩展,传统“先芯片后封装”的串行开发模式已难以为继,“系统技术协同优化”(STCO)正成为行业共识。对于国内先进封装产业而言,台积电在CoWoS和SoIC上的快速迭代进一步拉大了技术代差,但同时也指明了追赶方向——在大尺寸封装、混合键合等关键工艺节点上加快突破,依托国内AI芯片庞大的封装需求进行工艺验证,是缩小差距的必经之路。

05
公司动态(8月11日)

年产10亿只半导体引线框架项目签约落地新区,瑞科华芯加速关键材料国产替代

8月11日,由上海瑞科华芯科技有限公司投资的年产10亿只半导体引线框架项目正式签约落地南太湖新区。项目将分三期建设,前两期主要聚焦蚀刻型引线框架业务,一期计划于2027年快速投产,年产10亿只,产值目标2亿元;二期通过自建厂房扩容后,年产量将提升至40亿只,产值达8亿元。后期还将布局OLED新型显示相关领域。引线框架是半导体封装环节的核心结构材料,起到芯片与外部电路电气连接、散热及机械支撑等关键作用,其性能直接影响封装的可靠性与信号完整性。随着国内半导体封装产能持续扩张,高端蚀刻型引线框架的国产替代需求日益迫切。瑞科华芯此次大规模投建,有望为国内先进封装产业链提供关键材料支撑,降低对进口材料的依赖。


06
市场动态(8月12日)

Counterpoint:长江存储Q2 NAND出货量首度跻身全球第三,14%份额超越铠侠市场研究机构

Counterpoint Research 8月12日发布的数据显示,2026年第二季度,长江存储NAND闪存出货量以14%的市场份额首次攀升至全球第三位,以微弱优势超越铠侠。三星以25%的份额保持领先,SK海力士以22%位居第二,美光排名第五。长江存储出货量同比增长22%、环比增长5%。这一突破得益于AI工作负载从训练向推理的迁移——2026年第二季度,企业级SSD已占全球NAND出货容量的48%,较去年同期的26%接近翻倍。不过,出货量规模尚未完全转化为营收。由于长江存储产品结构仍集中于消费级应用,高单价的数据中心企业级SSD占比较低,其第二季度营收位列第五,仍落后于美光和铠侠。Counterpoint表示,长江存储已实现267层3D NAND闪存量产,并推进基于Xtacking架构的300层以上技术研发。公司计划下半年进一步向企业级SSD倾斜产品结构,以巩固全球第三的位置。Counterpoint预计,到今年底服务器eSSD将吸收超过50%的NAND出货容量。


07
公司动态(8月11日)

源杰技拟投资43亿元建设半导体科技产业园,扩大高端激光器芯片生产规模

8月11日,源杰科技公告称,公司拟投资建设源杰半导体科技产业园项目,投资总额约42.68亿元(含土地出让金)。项目拟在陕西省西咸新区沣西新城建设包含激光器芯片生产线、生产厂房及配套设施等产业化基地,旨在突破产能瓶颈,扩大高端激光器芯片生产规模。项目占地约126亩,建设周期预计为24个月。目前该事项已通过公司董事会审议,尚需提交股东会审议,并需办理用地、备案、环评等前置审批手续。项目建成后,将有助于公司把握市场增长机遇,满足客户在数据中心建设等领域持续提升的产品需求,增强订单交付的稳定性与响应速度。公开资料显示,源杰科技是国内采用IDM垂直整合制造模式的光芯片企业,覆盖从芯片设计、外延生长到晶圆制造、封装测试的全产业链条。

了解最新消息

如果你想先了解我们的最新消息,可以即刻订阅
×
即刻订阅
欢迎您订阅泓明网站邮件!


只需填写您的E-MAIL地址和其他信息,您就会收到泓明为您订制的相关新闻、服务、政策、产业等信息内容。


愿泓明能成为您的好伙伴!


您的姓名: *
您的公司: *
联系电话:
Email: *
地址:
订阅内容: *
您想订阅那种信息
  • 公司动态
  • 行业前沿
  • 政策法规
  • 产业洞察
城市:
省:
国家: